ハイパワー偏光キューブビームスプリッター

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Sunday, 20 May 2012

ハイパワー偏光キューブビームスプリッター High Power Polarizing Cube Beamsplitters ハイパワー偏光キューブビームスプリッターはパルスレーザー/CWレーザーの高出力環境で使用されるべく開発されました。オプティカルコンタクトされた2つの直角プリズムから構成され、接着面には無偏光の入射光をS偏光及びP偏光に分割する誘電体多層膜が施されています。透過光の消光比(T_p/T_s)は200:1以上となります。全ての入射面及び出射面には反射防止コーティングが施されます。
RMI 標準仕様
入射角度:	0º
反射角度:	90º
基材材質:	BK7, UVFS
表面精度: BK7, UVFS: CaF₂:	研磨面全て: λ/20 at 633 nm λ/4 at 633 nm
透過波面:	λ/4 at 633nm
表面品質: BK7, UVFS:	研磨面全て: 10-5
寸法公差:	± 0.010"
角度精度:	≤ 3分
面取り:	0.010" – 0.030" at 45º
有効開口:	実寸の85%以上
反射率:	R_s ≥ 99.5%
透過率:	T_p ≥ 95%
消光比:	T_p/T_s ≥ 200:1
反射防止膜:	R < 0.25%

使用されるコーティング情報へのリンク
可視域 / 近赤外域	狭帯域反射防止コーティング (NAR) ハイパワー偏光キューブビームスプリッター (HPC)

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